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發(fā)展探測(cè)技術(shù)，完善測(cè)量機(jī)配置?
探測(cè)技術(shù)在三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)中占有重要位置。從原理上說只要測(cè)頭能探及，三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)就能測(cè)量。三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)的測(cè)量效率也首先取決于探測(cè)速度。為了完善測(cè)量機(jī)功能，還必須發(fā)展各種附件。?
探測(cè)技術(shù)發(fā)展的第一個(gè)重要趨勢(shì)是，非接觸測(cè)頭將得到廣泛的應(yīng)用。非接觸測(cè)頭具有許多優(yōu)點(diǎn)：①允許高的探測(cè)速度，還可以用攝像頭或莫爾條紋形成的等高線等，對(duì)一個(gè)面進(jìn)行測(cè)量;；②它與工件不接觸，沒有測(cè)量力，從而可以測(cè)量各種柔軟的、易于變形、劃傷的工件；③它可以形成很小的光斑，對(duì)一些接觸測(cè)端不易伸入的部位或細(xì)節(jié)進(jìn)行測(cè)量；④在不少情況下，它具有較大的量程。
與發(fā)展非接觸測(cè)頭的同時(shí)，具有高精度、較大量程能用于掃描測(cè)量的模擬測(cè)頭，以及能伸入小孔、用于測(cè)量微型零件的專門測(cè)頭也將獲得發(fā)展。
